国产光刻胶自给率突破1%后，一个奇怪的情况出现了

杂质是光刻机原涂料、笔记本电脑原涂料的核心原涂料之一，其效用是运用于非金属涂层涂料。虽然今后也能原涂料杂质，但在智能手机杂质行业，我们一直具体来说进口。

据称，在智能手机杂质行业，日本抢占了亚太地区市场的75%，掌控了智能手机杂质的绝对在政治上。亦然欧美国家的智能手机杂质世界市场就比较寒酸，让人有些伤心。

以ArF杂质为例，这种杂质运用于14nm至130nm的笔记本电脑、光刻机上，但今后的ArF杂质的国产消费量仅为1%，因此今后需要从日企购买ArF杂质。

值得就让的是今后半导体新兴产业转型迅猛，多项新技术做到有所突破，这其中就包括杂质的有所突破。据称，欧美国家光刻机公司南大光电之前开发出多款ArF杂质，这些杂质制程伸展到28nm—90nm，并且这些杂质获得北岸的公司的可验证。

换言之，在ArF杂质行业，今后有所突破了1%的消费量，这对今后光刻机、笔记本电脑的转型效用促进效用。

虽然在智能手机杂质行业，今后之前做到了1%消费量的有所突破，但在智能手机EUV光刻机行业，我们的成效一直为零。面对这种奇怪的现象，一些关心国产光刻机的用户提出异议了自己疑问:难道国产ArF杂质名不副实吗？对于这个疑虑，我认为我们要这样看。

首先是杂质的种类有很多，ArF杂质只是杂质的一种。据称，杂质可分为5类，分别是EUV杂质、ArF杂质、KrF杂质、g线杂质、i线杂质。

其中EUV杂质原涂料难度最小，新技术含量略低于。而7nm的EUV光刻机就远EUV杂质。迄今南大光电的杂质还停留在ArF杂质阶段性，离EUV杂质还有相当可观的差异性。

其次是南大光电的ArF杂质还在试验车阶段性，离量产上市还有远处。虽然南大光电的ArF杂质获得北岸的公司的可验证。但这种可验证并不完善，离量产上市还有相当可观英哩。而且一款新涂料从试验车阶段性到量产上市也需要很长一段时间，短则1、2年，长则10年、20年。

由此可见，南大光电的ArF杂质在迄今的光刻机、笔记本电脑合作开发上不会太大效用，这是当下不得不申明的虚幻。

再者是光刻机、笔记本电脑的合作开发原涂料对杂质的硬质要求极其更高。比如一些智能手机DUV光刻机对杂质的伸展要求达到14nm，而南大光电的ArF光刻机伸展范围为28nm—90nm。试问这种杂质如何能考虑到智能手机DUV光刻机的合作开发、原涂料呢？

最后是光刻机、笔记本电脑的合作开发是一项极其复杂的事情，仅靠杂质的有所突破无法解决疑虑。第一台EUV光刻机的组装需要十几万个零部件，每一个零部件原涂料背后都是亚太地区最顶级公司的新技术支撑。

所以南大光电的ArF杂质的新技术有所突破并不能解决光刻机、笔记本电脑的合作开发原涂料，而只是加快光刻机、笔记本电脑合作开发原涂料的进程。

自从华为遭到老美阻挠后，举国对国产光刻机、国产笔记本电脑的转型极为关注。但凡光刻机、笔记本电脑的某项新技术做到有所突破，局域网上就掀起了一股‘厉害了’‘碾压其他公司’的论调。

一旦这些新技术无法扭曲国产光刻机、国产笔记本电脑的境况，那么局域网上就对这些新技术众所周知，甚至是责骂。

任何尖端设备的合作开发成功是数以万计新技术的有所突破，靠一项、十几项新技术有所突破无法扭曲现状。所以网友们还是少一点自大，多一点低调，唯有如此，我们才能美化良好科研成果环境。